溅射气压相关论文
利用直流磁控溅射法在有机玻璃基底上沉积掺杂氧化铟锡（ITO）透明导电薄膜，在室温条件下，研究了溅射功率、溅射气压、靶基距和氧氩流量......
针对脉冲激光法和升华法制备SiC薄膜时，沉积速率比较低、薄膜厚度不均匀等问题，本文采用真空直流磁控溅射技术，利用一种高含碳量的SiC......
覆层附着性是评定覆层零件性能及其使役可靠性的核心问题,膜基结合力测量是覆层附着性评价的主要方法。针对划痕试验中软膜硬基体......
在机械加工过程中，由于刀具与工件间的摩擦，特别是高速切削时，摩擦副快速上升的温度，极易短时间内导致刀具失效。过渡金属氮化物作为切......
针对传统制铝技术,为提高膜层结合力、阻隔性,采用射频磁控溅射镀铝工艺,制备纯铝高阻隔性膜层,在PET塑料薄膜表面沉积纯铝的实验.......
随着科学技术的迅速发展,航空技术也成为了重点发展领域。航空与国防之间已经密切相关。目前飞行速度的急剧增大导致了机体不同部......
残余应力直接影响镀膜膜层的稳定性与可靠性.为减小薄膜的残余应力,提高镀膜膜层的可靠性,在不同溅射气压、不同镀膜温度条件下,在......
非晶磁弹性薄膜由于具有磁晶各向异性消失和高磁弹耦合系数的特点，应力诱导的各向异性对其磁结构及磁性能将起到显著的影响。本文针......
学位
本文在全面总结智能材料的研究现状和未来发展趋势的基础上,利用射频磁控溅射法制备NiTi/ZnO复合薄膜,并利用XRD、SEM、EDS、DMA、......
基于Parratt循环光学理论和软X射线光学多层膜的选材原则,设计了应用在18 nm附近的Ti/Al软X射线光学多层膜(Λ=9.25 nm,Γ=0.3,N=2......
利用射频磁控溅射技术,在不同溅射气压下制备了铟锡锌氧化物薄膜晶体管(ITZO TFT),分析了ITZO TFT电学性能随气压的变化规律。研究......
期刊
利用磁控溅射方法在玻璃基片上制备了F eCoS iB薄膜,溅射过程中施加一横向静磁场,并在真空中退火。实验结果表明,F eCoS iB的应力......
采用直流反应磁控溅射法在玻璃基片上制备了 Ti O2 薄膜。靶材为纯度 99.9%的钛靶 ,溅射时基片不加热。XRD结果显示 ,所得 Ti O2 ......
在氧气和氩气的混合气体中,采用射频磁控溅射方法在蓝宝石基片上溅射生长了Ba0.5Sr0.5TiO3(BST)薄膜,使用微细加工工艺制备了BST薄......
为改善Ni80Fe20薄膜的性能,研究不同溅射气压对薄膜微结构和各向异性磁电阻的影响。用磁控溅射方法制备Ni80Fe20薄膜,用X射线衍射......
期刊
