脉冲偏压相关论文
等离子渗氮技术作为表面改性技术被广泛应用于材料表面改性领域。316L奥氏体不锈钢及M2高速钢均在各自的应用领域发挥着至关重要的......
基体沉积温度是离子镀工艺中影响薄膜性能和限制可镀基体范围的最重要参数之一。与传统的以直流负偏压为基础的电弧离子镀(direct ......
本文对脉冲偏压电弧离子镀(TiMe)N多元复合硬质薄膜进行了研究,选用电负性与Ti元素存在不同程度差异的过渡金属Nb、Cr、Zr作为添加......
多弧离子镀是物理气相沉积中最常用的技术之一，具有高离化率、高沉积率的特点，因此成为现代高端机械加工业应用最广泛的表面强化手段......
多弧离子镀是利用阴极电弧放电蒸发源的一种离子镀技术,具有离化率高、离子能量高、沉积速率快、膜层性能好等优点。但是由于阴极......
学位
该文改进和完善了脉冲偏压电弧离子镀的大颗粒净化的理论模型,系统研究了脉冲偏压作用下的等离子体鞘层的物理特性和大颗粒在鞘层......
MgO薄膜作为理想的保护层材料已经广泛应用于等离子显示技术中，其具有抗溅射、高的真空二次电子发射系数、可见光区透过率高等特点......
脉冲偏压真空电弧离子镀技术具有瞬间能量密度高、平均能量密度低的特点，与传统的直流偏压技术相比，不仅在低温下可制备致密的薄膜，还......
用扫描电子显微镜观察了电弧离子镀中各种不同偏压模式 :不加偏压、加不同直流偏压和加幅值相同但占空比不同的脉冲偏压情况下获得......
利用脉冲偏压磁过滤电弧离子镀在高速钢(M2)基底上沉积了厚约2.5μm的TiN薄膜;分别采用FESEM、GDOES、XRD和划痕试验法观察薄膜表......
脉冲偏压电弧离子镀的成膜过程远离热力学平衡态,与直流偏压电弧离子镀相比,具有成膜温度低、薄膜质量好和应力低等优点.从大颗粒......
由于直流偏压方法沉积金刚石薄膜易出现电荷积聚现象,从而影响了薄膜的均匀性.本文采用脉冲负偏压增强热丝化学气相沉积(HFCVD)法,......
采用磁增强活性反应离子镀系统成功地合成了立方氮化硼薄膜 .通过给基片施加脉冲直流偏压以代替传统的射频偏压 ,增强了立方氮化硼......
采用脉冲偏压电弧离子沉积技术在玻璃基片上制备了透明的、具有择优取向的MgO薄膜。针对绝缘性薄膜表面的荷电效应,比较了脉冲偏压......
