等离子体增强相关论文
利用红外吸收谱等微观分析对氧化硅和氨化硅薄膜的成分和结构进行了研究．采用高频Ｃ－Ｖ测试和准静态离子电流法测量了氧化硅、氯化硅及其......
最新Flex系统提供业界首创的电介质原子层刻蚀(ALE)生产工艺并已应用于量产。半导体设备制造商泛林集团公司推出了基于Flex电介质......
用等离子体增强化学气相淀积制备了Ge掺杂SiO2薄膜,并对薄膜进行了不同温度的退火处理。采用棱镜耦合仪、原子力显微镜和傅里叶变......
报道了自行设计的将二维Ｄａｍｍａｎｎ光栅和Ｆｒｅｓｎｅｌ波带板集成为一体的同时具有分束和聚焦功能的二元位相型光分束器，并用等离子体增强化学气相淀积法（ＰＥＣＶＤ）制......
利用等离子体增强化学气相沉积技术在单晶硅表面制备了类金刚石碳(DLC)薄膜，并将其分别浸泡在经磁场处理和未经磁场处理的去离子水......
众所周知,硅基材料在半导体行业起到了举足轻重的地位,比如说现在的液晶显示屏都会使用低温多晶硅薄膜,这些薄膜可以使用准分子激......
氢化非晶硅(a-Si:H)薄膜在薄膜太阳能电池、薄膜晶体管、辐射探测和液晶显示等领域有着重要的应用,因而在世界范围内得到了广泛的......
随着现代材料科学、生命科学以及医学科学的迅猛发展，生物材料在临床医学领域中的应用已日趋广泛。等离子体表面改性技术现已成为生......
本实验利用自制的磁控弧光射频等离子体增强化学气相沉积(RF magnetron PECVD)设备,在生物玻璃片上制备类金刚石碳(DLC)膜,利用探......
掺氮氟化类金刚石(FN-DLC)薄膜是一种基于传统的类金刚石薄膜(DLC)和氟化非晶碳(a-C：F：H)薄膜的改性材料。结合了DLC和a-C：F：H薄膜的优......
传统相变热处理和化学热处理用于钢铁表面改性已很难满足现代工业，尤其是精密加工制造业的需要。氮化硅膜以其硬度高、耐磨性和耐腐......
多晶硅(Poly-Si)薄膜以其优异的光电性能与较低的制备成本,在能源信息产业中日益成为一种非常重要的电子材料,在大规模集成电路和......
在硅基上实现光电单片集成，能够为微电子器件提供大带宽的光互连，同时为光电子器件提供低廉的制造成本，这使得硅基光电子成为国际上半......
本文采用辉光放电等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术，利用C2H4、N2、B2H6和Ar作为反应气体，在n型和p型导电硅片上制备DLC、N-DLC......
近年来，随着工控技术的发展，计算机自动控制系统广泛地应用于国民生产的各个领域。对于真空镀膜设备，为了保障薄膜的质量及生产的效率......
硅基薄膜太阳电池已成为光伏发电系统中的重要组成部分，开发低成本、高效率的太阳电池是其研究的重点。对非晶硅及微晶硅太阳电池性......
由氢化微晶硅(μc-Si∶H)与氢化非晶硅(a-Si∶H)构成的a-Si∶H/μc-Si∶H叠层太阳电池（micromorph电池），可以更充分地利用太阳光，并且......
本文在微波电子回旋共振(MW-ECR)等离子体辅助下，分别以单晶硅靶、石墨靶和陶瓷SiC靶为溅射靶材，Ar气为溅射气体，制备了富硅SiC和SiC......
