厚度均匀性相关论文
源炉是分子束外延设备中的核心部件之一,对于分子束外延设备及其成膜性质具有决定性的影响,源炉的性能对于外延薄膜的厚度均匀性、......
随着摩尔定律的逐步实现,大直径硅片的应用规模逐渐扩大,然而,大直径硅外延片的片内均匀性成为了外延的主要问题之一.使用具有五路......
目前，由于汽车车灯工件批量少、种类繁多，车灯喷涂机器人离线编程系统尚无法满足喷涂效果和效率要求，因此车灯喷涂主要还是靠人工喷涂......
磁控溅射系统中薄膜厚度的均匀性是关键指标之一.通过分析磁场强度、靶材与基板的距离和气体压强对Si3N4和SiO2两种薄膜厚度均匀性......
随着工业和科学技术的发展,在电镀技术中,对电镀层的质量提出了越来越高的要求,尤其是对电镀层厚度的均匀性的要求,越来越严格。......
自行设计并搭建了一套全自动荧光粉涂覆系统。针对涂覆工艺,研究了有无真空搅拌除泡装置对荧光粉涂覆效果的影响,结果发现未经真空......
利用光内送粉技术对小间隙双层斜套的成形工艺进行了研究,采用依次独立堆积路径、法向分层、无错位堆积工艺方法成形了双层斜套。......
一、前言 真空蒸镀铝膜材料用做金属化电容器比之用轧制铝箔做电容器具有许多优点:(1)蒸镀铝膜薄,一般为300 (而铝箔7μm厚),故用......
随着磁控溅射技术应用日益广泛,难熔金属靶材需求不断增大。就难熔金属靶材应用、制备及发展进行总结和探讨,分析了制作过程中致密......
通过实践操作经验结合相应的理论知识,分析了在生产过程中温度参数设定、模口间隙调整、风刀装置、缩幅等影响流延聚丙烯薄膜厚度......
液态硅源硅酸乙酯(TEOS)在700~750℃分解的LPCVD工艺,二氧化硅薄膜沉积的速率可以达到20~30nm/min,薄膜的厚度均匀性小于1﹪,这些优......
微透镜阵列是重要的集成化微光学元件,采用微注塑成型技术或纳米压印技术实现批量化生产。电铸是微注塑模芯或纳米压印模芯的核心......
在微电子和集成电路技术高速发展的今天,石墨烯由于其独特的六角结构赋予了其独特的半导体特性,成为能够取代硅材料的最理想的半导......
电阻加热具有比较好的加热均匀性,可以认为对于非升华性材料,具有比较理想的平面源发射特性n=1。而电子束加热时,通常n=2~3,甚至可......
采用RF-PECVD法在锗（Ge）基片上沉积类金刚石（DLC）薄膜,研究了气体流量和气压对沉积区域均匀性的影响,以及基片厚度与沉积时间的关系。......
