【摘 要】
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本文叙述关于用光学法自动测量集成电路和大规模集成电路用的掩模或基片上所形成的微细图形尺寸的方法.图1是利用放大的光学象测量掩模图形线宽方法之一例.掩模置于可沿x-y方
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本文叙述关于用光学法自动测量集成电路和大规模集成电路用的掩模或基片上所形成的微细图形尺寸的方法.图1是利用放大的光学象测量掩模图形线宽方法之一例.掩模置于可沿x-y方向定位的工件台上,由透射光照明,要测的图形,经过显微镜光学系统放大成象,在成象面上,沿着图形线宽的测量方向放
This paper describes a method for automatically measuring the size of fine patterns formed on masks or substrates for integrated circuits and large scale integrated circuits by optical methods. Figure 1 shows an example of a method for measuring the width of a mask pattern using an enlarged optical image. The mold is placed on a workpiece stage that can be positioned in the xy direction and is illuminated by transmitted light. The pattern to be measured is magnified and imaged through a microscope optical system. On the imaging surface, the pattern is measured along the measurement line width
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