【摘 要】
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近年来随着无线通讯领域的模拟和数模混合信号应用的快速增长,使得BiCMOS技术在数模混合集成电路中的应用越来越被人们关注.本论文对高速双层多晶硅自对准BiCMOS制作工艺进行了研究,开发了一套完整的0.5μm高速双层多晶硅自对准BiCMOS制作工艺,取得的主要成果有:1在BiCMOS工艺中采用了深沟隔离(DTI)技术.采用了现在国际上通用的SiO2/Si3N4/SiO2三层结构作为阻挡层,用C12
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近年来随着无线通讯领域的模拟和数模混合信号应用的快速增长,使得BiCMOS技术在数模混合集成电路中的应用越来越被人们关注.本论文对高速双层多晶硅自对准BiCMOS制作工艺进行了研究,开发了一套完整的0.5μm高速双层多晶硅自对准BiCMOS制作工艺,取得的主要成果有:1在BiCMOS工艺中采用了深沟隔离(DTI)技术.采用了现在国际上通用的SiO2/Si3N4/SiO2三层结构作为阻挡层,用C12/BCl3/SF6混合气体主刻,在Si衬底上刻蚀出了宽为1.8μm,深为4.5μm的深沟,深沟形状较好.并通过CVD本征多晶硅对构槽进行了填充.最后测试深沟隔离性能良好.2在BiCMOS双极部分的E-B结隔离工艺中采用了SiO2/Si3N4复合侧墙结构,最终形成了侧墙厚度均匀、隔离性能良好的复合侧墙,测试E-B反向击穿电压达5.6V.3对影响BiCMOS器件性能的主要工艺条件进行了研究和优化,包括在内基区形成工艺中采用了低能BF<,2>注入取代硼离子注入的方式形成超薄内基区;增加选择性注入集电极(SIC)降低内基区宽度、减小集电极电阻以提高双极晶体管的特征频率;对工艺中的退火工艺对器件性能的影响进行了模拟和优化.并根据优化结果设计了一套合理的BiCMOS制作工艺参数.4通过优化,成功地开发了一套完整的0.5μm高速双层多晶硅自对准BiCMOS制作工艺.制作出双极器件部分的特征频率为8.16GHz、CMOS部分各项性能良好的高速BiCMOS器件.
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