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在玻璃表面沉积纳米薄膜，可改变玻璃的光热学性能、减低玻璃的热辐射和热传导性能，大大提高建筑的节能环保性能。采用离线镀膜工艺，其使用的沉积材料丰富，膜层结构多样，其薄膜的热工性能较好，品种丰富。因此，为了追求优秀的热工性能和多样的产品外观，离线低辐射镀膜玻璃具有广泛的应用前景。而沉积膜层的材料、薄膜沉积的工艺技术、膜层沉积的结构、膜层的沉积厚度等，均对玻璃的性能有着本质影响。 本论文主要论述通过离线磁控溅射方式在玻璃表面沉积低辐射镀膜玻璃的技术，及其低辐射镀膜玻璃相关性能的研究。内容主要包括:1.平板玻璃磁控溅射镀膜设备结构及工作原理，介绍现代化磁控溅射镀膜生产线的生产方式;2.针对常用的几种低辐射镀膜玻璃的膜层材料，如银层、氧化锌层、氮化硅等。分析这些单层膜层对离线低辐射镀膜玻璃性能的影响，提高银的溅射气压会提高银的溅射效率，反而不利于银层的导电率;氧化锌溅射工艺中氧气比例和溅射功率都对Low-E膜面电阻有较大影响;氮化硅越厚有利于提高Low-E膜的稳定性;3.本文采用了多种测试方法来分析低辐射镀膜玻璃膜层结构，其中，XPS是最准确的分析测试方法，SIMS是相对经济准确的分析测试方法，椭偏仪较适合生产过程中的日常研发分析;4.从玻璃结构、膜层结构和膜层材料等方面分析影响低辐射镀膜玻璃的光热学性能的因素。玻璃总厚度、间隔层厚度、间隔层充入气体种类以及Low-E膜的辐射率都对低辐射镀膜玻璃的热学性能U值有不同程度的影响;银层的厚度、介质层的厚度和介质层材料种类，对低辐射镀膜玻璃的光学性能LSG有一定影响。