【摘 要】
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采用多元等离子体浸没离子注入与沉积(MPⅢD)装置制备Ti-Al-Si-N涂层,借助X射线衍射仪(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、透射电子显微镜(TEM)、纳米探针和原子力显微镜(AFM)
【机 构】
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辽宁科技大学,辽宁鞍山 114051
【出 处】
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第十届全国表面工程大会暨第六届全国青年表面工程论坛
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采用多元等离子体浸没离子注入与沉积(MPⅢD)装置制备Ti-Al-Si-N涂层,借助X射线衍射仪(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、透射电子显微镜(TEM)、纳米探针和原子力显微镜(AFM)等系统研究涂层界面微结构与力学性能.研究结果表明：Ti-Al-Si-N涂层具有Si3N4界面相包裹TiAlN纳米晶复合结构,Si元素掺杂诱发涂层发生明显晶粒细化效应.随涂层Si含量增加,TiAlN晶粒尺寸显著降低,界面Si3N4层厚度增加.当Si3N4界面层厚度小于1nm并与TiAlN晶粒共格外延生长时,Ti-Al-Si-N涂层表现超高硬度约40GPa,当Si3N4界面相厚度增至2nm并呈非晶态存在时,涂层硬度降至约29GPa.
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