论文部分内容阅读
Plasma Processing Reactor Based on Beam Plasma Discharge for Soft Low Energy Processing of Materials
【机 构】
：
Kotelnikov Institute of Radio Engineering and Electronics of RAS,Moscow,Russia
【出 处】
：
The 8th Asian-European International Conference on Plasma Su
【发表日期】
：
2011年期
其他文献
Surface Microstructure and Properties Induced by High Current Pulsed Electron Beam (HCPEB) Treatment
会议
Reactive Pulse Magnetron Co-sputtering of Transparent Conductive Ta or Nb Doped TiO2 Thin Films with
会议
目的了解天津某城区餐饮业餐具卫生消毒质量现状,分析存在问题,为加强监管提供可靠依据。方法用大肠菌群快速检测纸片法,对天津市某经济开发区142家餐饮单位的餐饮具消毒效果
Ceramic Si(B)CN Coatings for Ultra High Thermal Loads:Dependency between Synthesis Route and Coating
会议
目的检测血管内皮生长因子(VEGF)与CD44v6、MMP-2在乳腺癌中的表达情况,探讨它们之间的关系。方法采用免疫组化SP法检测92例乳腺浸润性癌中VEGF、CD44v6、MMP-2的表达情况,并