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Reactive Pulse Magnetron Co-sputtering of Transparent Conductive Ta or Nb Doped TiO2 Thin Films with
【机 构】
：
Fraunhofer Institute for Electron Beam and Plasma Technology FEP,Winterbergstrasse 28,Dresden D-0127
【出 处】
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The 8th Asian-European International Conference on Plasma Su
【发表日期】
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2011年期
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