【摘 要】
：
高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)放电可产生高密度、高溅射粒子离化率的等离子体，能够在基片表面获得高通量的靶材离子束流和自离子辅助的沉积效果，沉积薄膜的显微结构、膜基结合力等较常规磁控溅射工艺有明显改善。高密度靶材离子的产生与HiPIMS 放电自溅射的产生和发展密切相关。采用等离子体整体模型研究了Ar 气氛中HiPIMS 放电的物理过程，揭示了不同靶材料、不同工艺条件下，一个脉冲内HiPIMS 放
【机 构】
：
北京大学深圳研究生院新材料学院,广东深圳,518055
论文部分内容阅读
高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)放电可产生高密度、高溅射粒子离化率的等离子体，能够在基片表面获得高通量的靶材离子束流和自离子辅助的沉积效果，沉积薄膜的显微结构、膜基结合力等较常规磁控溅射工艺有明显改善。高密度靶材离子的产生与HiPIMS 放电自溅射的产生和发展密切相关。采用等离子体整体模型研究了Ar 气氛中HiPIMS 放电的物理过程，揭示了不同靶材料、不同工艺条件下，一个脉冲内HiPIMS 放电自溅射的产生和发展。结果 表明，溅射粒子离化率和自溅射程度随峰值功率密度的提高而增加；接近自持自溅射时，随功率密度的进一步提高离子返回靶的概率减小，流向基片的离子通量大幅提高。具有较高自溅射率和较低电离能的靶材料容易实现自持自溅射和高通量的靶材离子沉积束流。
其他文献
A NiO/RGO hybrid film is prepared by a sol-gel method [1].The microstructures of the hybrid films were characterized by X-ray diffraction and scanning electron microscopy.The results show that NiO/RGO
中国电子科技集团公司第十八研究所研制了批生产平均效率达到30.6％的高效GaInP/GaInAs/Ge三结太阳电池(AM0,25oC,136.7 mW/cm2),最高光电转换效率超过31％.经1MeV,累积通量1e15 cm-2 电子辐照后,功率衰降16％,本文同时给出了其它性能测试结果,环境模拟试验后,电性能衰降小于2％.
采用120 V 电压,在含0.4 M F-电解液中阳极氧化Ti 片制备了高度有序且结构紧凑的TiO2 纳米管阵列.与传统阳极氧化工艺(60 V,0.27 M F-)相比[1-3],不仅制备时间从数小时缩短到数十秒,而且所得到的TiO2 纳米管阵列与Ti 基底结合紧密,光电转化性能也有明显提高.在传统的连续离子层吸附反应法(SILAR)基础上,采用超声协助的U-SILAR 方法在TiO2 纳米管阵列
采用以偏钨酸铵作为前驱体的溶液法制备WO3电致变色薄膜,并利用XRD,SEM,AFM 和TEM 等技术表征了薄膜的微结构.薄膜在400oC 热处理时从无定型态转变为三斜晶系,薄膜表面平整,厚度为42 nm 左右.实验对比了非晶态和结晶态WO3 薄膜在不同H+离子注入量时的透射光谱和椭圆偏振光谱,并采用双层模型对椭偏光谱实现了较好拟合.研究结果表明,WO3 薄膜表现出较好的电致变色性能,可见光平均透
Unassisted overall water splitting via photoelectrochemical(PEC)light harvesting system as a promising approach has been developed for hydrogen fuel production.However,very few p-type semiconductor ph
长期运行的空间站，因空间环境或其他因素可能出现的密封舱体泄漏，将威胁航天员的生命安全、缩短空间站寿命。但通过有效的在轨检漏技术，快速地确定泄漏位置，并进行堵漏和修复，就可消除空间站泄漏隐患。本文介绍了空间站在轨检漏总体技术、压力变化“判”漏技术、超声便携航天员舱内大漏“定”漏技术、声传感器“实时定”位技术，分析了空间站舱内环境对检漏技术影响因素，提出了切实可行且已攻克技术关键的在空间站在轨检漏技术
采用飞秒激光在GCr15 基体表面进行不同微结构加工，并在其表面采用电弧沉积方式制备DLC 薄膜，比较并研究了不同微结构对DLC 薄膜的结构及性能影响，通过扫描电镜对薄膜厚度及形貌进行测试，采用EDS 测试薄膜成份，采用XRD 测试薄膜结构，力学性能通过纳米压痕、划痕试验进行测试，摩擦磨损性能采用srv 摩擦磨损实验仪及形貌测试仪进行分析。结果 表明薄膜力学性能及耐磨性能均与不同的微结构形状及分布
TiN 薄膜是一种广泛应用的减摩抗磨防护涂层,将其与优化的润滑技术结合可显著改善涂覆TiN 摩擦副的摩擦磨损性能[1].目前的润滑技术优化主要是基于钢铁材料摩擦副进行研发[2],而对TiN 薄膜在二烷基二硫代氨基甲酸钼(MoDTC)边界润滑条件下摩擦磨损性能的研究还鲜见报道.本工作利用往复式球-盘摩擦磨损试验机测试了阴极电弧离子镀制备的TiN薄膜在不同边界润滑条件下的摩擦磨损性能,润滑油基础油为聚
本文利用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)方法制备了自支撑金刚石膜,利用高温氧化方法,对金刚石膜进行处理,获得了具有特殊表面结构的金刚石膜,并深入研究了其浸润性,以拓展其新应用。研究表明(100)织构自支撑金刚石膜的生长面(接触角,87°)和成核面(接触角,70°)为亲水性,高温氧化处理后的金刚石膜生长面亲水性略有增大(接触角,78-80°),而成核面表现出超亲水性(接触角,0-18°)。进一
Alumina,silica and titania thin films are deposited inside the channels of stainless steel tubular reactors by atomic layer deposition(ALD)to suppress the metal catalyzed coke formation during thermal