ZnO基薄膜制备及光电磁特性的研究

来源 :第四届全国氧化锌学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:alexshinichi
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本研究组采用脉冲激光沉积(PLD)、磁控溅射等方法,在石英(SiO2)、单晶硅和有机柔性衬底上制备了掺杂不同元素的ZnO基薄膜功能材料。采用X射线衍射仪(XRD)、俄歇能谱仪、扫描电子显微镜(SEM)、荧光光谱(PL)、紫外可见分光光度计、霍尔效应、振动样品磁强计等测试手段,开展了对制备样品的结构、光学性能、电学性能以及磁学性能的研究。
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