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氨基磺酸盐电镀镍由于具有高速沉积、内应力低的特点,在电子电镀中应用广泛,本文研究了氨基磺酸盐电镀镍工艺,同时介绍其电镀的工......
对于微晶硅薄膜电池，提高沉积速率是一种降低生产成本的有效方法，然而这会引起薄膜材料质量的下降，导致所制备电池的转换效率降低。本......
本文以微晶硅薄膜的沉积速率为重点，以优化沉积条件、提高微晶硅薄膜的沉积速率为目标，通过射频等离子体化学气相沉积(RF-PECVD)和甚......
利用甚高频等离子增强化学气相沉积(VHF-PECVD)制备了一系列微晶硅(μc-Si:H)薄膜。研究分析了功率密度、硅烷浓度和气体流量在较......
采用光发射谱(OES)技术对氢化微晶硅(μc-Si:H)薄膜的甚高频等离子体增强化学气相沉积(VHF-PECVD)生长过程进行了原位监测,并对不......
一、高速电弧喷涂预处理工艺rn高速电弧喷涂工艺包括工件表面的预处理、喷涂、喷后处理等几个大的步骤.高速电弧喷涂时,高压空气将......
采用超高频等离子体增强化学气相沉积(VHF-PECVD)技术研究微晶硅(μc-Si)薄膜的高速沉积过程发现:分别采用100和500 sccm流量制备......
采用高压高功率的甚高频等离子体增强化学气相沉积(VHF-PECVD)技术,以不同的反应气体总流量制备出沉积速率大于1nm/s、次带吸收系......
