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针对传统条形磁控溅射靶磁场分布不理想、靶材利用率低、镀膜不均匀等不足,通过优化磁场分布,缩小条形靶端部与中部的磁场差距,增......
近年来,负离子源溅射技术在核物理、高能物理、表面分析、半导体器件生产等行业得到了飞速发展。负离子源磁控溅射技术逐渐成为机......
对角效应是一种存在于磁控溅射中,由于阳极的不对称分布而引起的一种不对称刻蚀的现象,表现为靠近阳极的一侧溅射跑道沿着霍尔电流......
通过仿真对比分析单圈、两圈、三圈磁场的靶材利用率,选取三圈磁场进行磁场强度优化,根据仿真结果优化设计了多圈磁场、磁棒组合磁......
本文介绍了新型的等离子体束溅射镀膜机的系统组成、特点、试验结果等内容.该镀膜机将等离子体发生和控制技术应用于溅射镀膜中,克......
期刊
近年来,随着磁控溅射技术的应用日趋广泛,磁控溅射已发展为工业镀膜生产中最主要的技术之一,但磁控溅射也暴露出靶材的利用率、沉......
