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基于并行计算的电子束光刻邻近效应校正技术研究
集成电路特征线宽不断减小的趋势和MEMS技术制备三维微结构的要求,都需要通过采用适当的方法对电子束光刻技术中由电子的散射引起......
学位
电子束光刻
能量沉积分布
邻近效应校正
分层模拟
并行计算
多能点X射线透射光栅的制作技术
针对X射线自支撑透射光栅在多能点单色成像光栅谱仪中的应用,采用电子束和光学匹配曝光、微电镀和高密度等离子体刻蚀技术,成功制......
期刊
X射线透射光栅
电子束曝光
邻近效应校正
微电镀
自支撑透射光栅
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