采用高频磁控溅射研制出的Cr-Si薄膜,方阻为500Ω/□～5kΩ/□,TCR小于50×10~(-6)/℃,并在生产中得到应用。 The Cr-Si film devel......

电是现代文明之源,人类对电能的需求与日俱增.输电线通常使用铝线和铜线,由于电阻的存在,因而损耗大量的电能,且因电阻发热,也使导......

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