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氧化退火相关论文
SiC MOS的模拟、制备与表征
碳化硅是第三代半导体材料,具有禁带宽度大,饱和漂移速度高,耐高压和耐高温以及抗辐射的优点,因此基于SiC的功率器件可以实现较小的导......
学位
MOS
SiC
模拟
界面陷阱密度
氧化退火
能级位置
界面态密度
后氧化
C-V曲线
温度
器件
样品
镍在钨基合金的抗氧化层中的作用
以前的研究工作表明,在空气中600℃~ 800℃时,在钨溅射膜表面生长不同的氧化膜,并表明这层溅射膜的抗氧化性能可通过用其它过渡金属(......
期刊
钨基合金
氧化层
抗氧化性能
涂层
镍含量
溅射膜
氧化退火
体心立方
特征研究
空气
间隙元素
尖晶石相
过渡金属
表面生长
氧化膜
葡萄牙
结晶态
合金化
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