最近二十余年来，低密度奇偶校验（Low-Density Parity-Check，LDPC）码由于其逼近香农限的优越性能，得到了非常丰富和深入的研究与应用。然......

光刻一般被认为是每代半导体器件的关键技术.几十年来光学投影光刻是大批量生产集成电路光刻技术的最好选择,目前普遍认为光学系统......

波前像差虽然是个简单函数,但是却能对成像系统的光学特性进行完整的描述.近年来,Hartmann-Shack波前传感器测量人眼波前像差技术......

根据国内外研究和发展现状 ,对有望突破 1 0 0nm超精细图案光刻分辨率的一些关键技术进行了阐述 ,其中包括曝光技术、掩模技术、光......

首次采用铝掩模工艺制备出 9× 9硅基聚合物阵列波导光栅 (AWG)复用器。结果表明 ,在AWG器件制作工艺上 ,铝掩模技术明显优于厚胶......