基体偏压相关论文
为了防止氢扩散而导致金属材料的失效，通常在其表面制备一层CrN阻氢薄膜。但是CrN涂层的热稳定性较差，抗氧化温度低于600 ℃。采用高......
在严苛海洋环境下，传统单一的Ti掺杂类金刚石薄膜（DLC）无法满足减摩耐磨及耐腐蚀性能的要求，仍需进一步探索。为促进DLC薄膜在严苛海洋......
以高速干切削为代表的绿色加工制造业快速发展,迫切需要提高刀具涂层的宽温域使役性能,相较于作为刀具涂层而被广泛使用的传统金属......
采用高功率脉冲磁控溅射方法在不同基体偏压下的钢基体上沉积含Cr过渡层的DLC薄膜.利用原子力显微镜、场发射扫描电镜、Raman光谱......
本文采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术在载玻片、铝合金和单晶硅基体上制备了AISn20/C镀层。采用X射线光电子能谱仪(XPS)、扫描......
研究磁场增强高功率脉冲磁控溅射技术的放电特性在不同工作参数下的演变规律.利用数字示波器采集HiP-IMS的基体离子电流用于表征其......
利用磁场增强的石墨阴极弧在Si片和M2高速钢上沉积了ta-C薄膜,重点研究了基体偏压对膜层截面形貌、沉积速率、膜层结构、耐腐蚀性......
电弧离子镀是真空镀膜技术中最常用的技术之一,目前在科学研究及工业生产中都得到了长足发展.但是在薄膜沉积过程中的工艺参数如弧......
应用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术在高速钢和单晶硅基体上制备了一组随基体偏压变化的CrTiAlN梯度镀层,并测试了其摩擦学性能.......
采用磁控溅射技术在不同基体偏压(-60,-70,-80,-90 V)下制备了CrAlN纳米多层薄膜,研究了基体偏压对薄膜微观结构和力学性能的影响......
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