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镶嵌钨的化学机械抛光的研究
研究的是ULSI镶嵌钨CMP的选择性 ,化学与机械作用匹配 ,浆料的悬浮及存放和后清洗等问题。 The study is about the ULSI mosaic ......
期刊
化学机械抛光
ULSI
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抛光垫
ULSI制备中铈在SiO2介质CMP抛光中的作用研究
对ULSI制备中铈(Ce)在Si02介质的CMP中的应用及对Ce胶体抛光液的制备进行了较为深入的实验研究,并对提高抛光效果进行了大量实验.......
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ULSI
化学机械抛光
全局平面化
Ce离子抛光浆
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