二氯二氢硅相关论文
化学汽相淀积（ＣＶＤ）设备的使用与维修王焕杰，张克云，陈振昌（复旦大学．上海．２００４３３）自８０年代初开始，化学汽相淀积（简称ＣＶＤ）工艺及其专用设备，在我国半导体器件制......
摘 要：利用二氯二氢硅与四氯化硅反歧化反应生成三氯氢硅的原理，本文提出一种改善二氯二氢硅的反歧化系统试验的有效措施，对反歧化化......
多晶硅作为原材料，被广泛应用于半导体信息产业和光伏产业中。目前国内外存在几种多晶硅生产工艺，而第三代改良西门子法是应用范围最......
多晶硅作为光伏产业的原材料应用广泛。采用改良西门子法生产多晶硅，工艺流程长、多晶硅还原一次转化率较低导致多晶硅的生产成本偏......
目前硅外延生长常用方法是以电子级二氯二氢硅为反应气体,采用化学气相沉积的气相外延法.二氯二氢硅生产工艺主要有歧化法、氢化法......
在特定催化剂作用下采用固定床的方法，消耗二氯二氢硅和四氯化硅生产出氯硅烷（三氯氢硅和四氯化硅的混合物）。分别研究四氯化硅、三氯......
二氯二氢硅反歧化装置利用二氯二氢硅与四氯化硅的反歧化反应原理，可以有效地将二氯二氢硅转化成多晶硅生产原料三氯氢硅加以回收利......
在多晶硅改良西门子方法生产中，系统中B杂质会富集且很难除去，对产品质量影响很大，另外，运行中会产生一定量的副产物二氯二氢硅，不易回......
随着集成电路产业近年来的高速发展,对可用于12寸晶圆的高纯电子级多晶硅的需求不断提升,但是国内少数厂家仅能进入中低端市场,在......
