以Ta2O5为初始膜料, 采用电子束蒸发制备了Ta2O5薄膜, 以空气和氩气分别作退火保护气氛, 以X射线粉末衍射仪(XRD)为测试手段研究了......

Ta2O5 and Nb2O5 films are deposited on BK7 glass substrates using an electron beam evaporation method and are annealed a......

Tantalum pentoxide thin films are prepared by oblique angle electron beam evaporation. The influence of flux angle on th......

Ta2O5 films are prepared on BK7 substrates with conventional electron beam evaporation deposition. The effects of SiO2 p......

Ta205薄膜作为一种高折射率薄膜,在可见和近红外波段均具有较高透过率,因其出色的物理特性备受光学和微电子领域的关注。阴极电弧......

以乙醇钽[Ta(OC2H5)5]和水蒸气为前驱体,采用原子层沉积(ALD)方法分别在基板温度为250℃和300℃的K9和石英衬底上制备了Ta2O5光学......

采用电子束蒸镀在重掺杂Si衬底上制备了150 nm厚的Ta2O5薄膜,研究原位生长温度(150,250和350 ℃)和后退火工艺对Ta2O5薄膜性能的影......

本文采用电子束蒸发配以Kaufman离子源产生的氧离子辅助沉积了Ta2O5薄膜,用原子力显微镜(AFM)表征了薄膜的表面形貌、表面粗糙度,......

研究了一种基于波分复用原理的准分布式光纤表面等离子体波传感器。应用光波导理论和多层膜反射理论分析了表面等离子体波效应在同......

用射频磁控溅射法制备了Ta2O5高介电薄膜,并对其进行了退火处理。用C-V,(G/ω)-V和I-V方法研究了Al/Ta2O5/p-Si结构的电学特性,观......

光学薄膜作为纳米材料的一种,受到广大研究和应用者的关注,已经广泛应用于显示器、太阳能电池、光通讯以及激光器件等诸多领域。Ta......