ECR等离子体相关论文
本文在自主设计的ECR等离子体装置上开展了等离子体电子、离子参数的测量研究，并利用ECR等离子体对等离子体化学气相沉积（PCVD）金刚石......
用微波电子回旋共振（ECR）等离子体化学气相沉积（CVD）技术和CHF_3、C_6H_6源气体的新组合沉积了F/C比在0.11-0.62之间的氟化非晶碳（α-C:......
该论文介绍了几种氮化物薄膜的低温合成和对氮化物薄膜的性质研究.低温合成制备优质的氮化物薄膜的关键是低温条件下化合物的形成......
本论文的研究对象为对固体的脉冲激光烧蚀(PulsedLaserAblation，PLA)产生的等离子体(简称PLA等离子体)和对气体的电子回旋共振(Elec......
氢在GaN薄膜制备工艺中扮演很重要的角色,氢主要有两个来源,一是载气氢,另一个来源是从TMG气源本身离解出来的氢产物。本文研究了......
利用电子回旋共振(ECR)微波放电等离子体对单晶硅表面进行了低温大面积氮化和氧化处理的探索，在低于80℃的温度下得到了均匀的厚度......
将磁控管方式溅射用于微波ＥＣＲ等离子体沉积技术。在低气压和低温下沉积了高度Ｃ轴取向的ＺｎＯ薄膜，其膜的沉积速率比普通ＥＣＲ溅射中所得到的速率大......
用苯作源气体在一个微波电子回旋共振等离子体系统中沉积了含氢非晶碳薄膜,研究了沉积参数对膜的生长速率的影响.为了探索该种薄膜......
提出了用微波电子回旋共振等离子体溅射法 (ECR)在石英晶体表面制备出性能优异的TiN薄膜 ,研究了TiN薄膜的性能以及作为液体黏度检......
利用最新自行研制的电扫描发射度探测系统,在ECR离子源上进行了一系列关于ECR离子源引出束流发射度的研究.这套电扫描发射度探测系......
采用静电探针技术对微波电子回旋共振(MW-ECR)等离子体进行了诊断,利用等离子体增强非平衡磁控溅射(PE-UMS)法在常温下制备了Zr-N......
