0.13μm相关论文
介绍了一种用于射频标签芯片中数字逻辑部分的上电复位电路。该上电复位电路适应于低电源电压的芯片,改变MOS晶体管的参数以及延迟......
期刊
提出了一款基于0.13μmSiGeBiCMOS工艺设计、加工的340GHz在片背腔贴片天线.辐射贴片位于AM 金属层带状线馈线置于 LY 金属层并通......
随着集成电路工艺关键尺寸的大小不断递减,集成电路现已进入深亚微米的技术阶段,并且不断向前发展。作为集成电路制造工艺中关键的......
无线局域网(WLAN, Wireless Local Area Networks)技术具有传输速度快、有效距离长、可靠性高的特点,与第三代移动通讯(3G, Third ......
随着集成电路的发展,CMOS的工艺进程突飞猛进。栅极长度是半导体制程进步的关键,从早期的0.18微米、0.13微米,进步到90纳米、65纳......

