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本文合成了聚苯乙烯—N—(4-羟基苯基)—马来酰亚胺(MR—O),它的Tg为258℃,CF_4等离子刻蚀速率与酚醛树脂相近。用它作为重氮邻醌系正性光刻胶的成膜树脂,得到了一种耐240℃以上高温的正性光刻胶。用JKG—1型光刻机曝光,曝光时间为60秒(1μm厚,用0.2％氢氧化钠水溶液湿影,分辨率高于1.6μm,反差为2.7。