【摘 要】
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S枪是一种枪型磁控溅射源,它可以代替电子束蒸发源或电阻蒸发源,制成高质量的金属镀层。用S枪可镀制预定配比的铝-硅,铝-硅-铜台金薄膜,其台阶覆盖特性优于电子枪,均匀性≤±
【机 构】
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上海无线电十四厂,上海无线电十四厂,上海无线电十四厂,上海无线电十四厂
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S枪是一种枪型磁控溅射源,它可以代替电子束蒸发源或电阻蒸发源,制成高质量的金属镀层。用S枪可镀制预定配比的铝-硅,铝-硅-铜台金薄膜,其台阶覆盖特性优于电子枪,均匀性≤±5%;且控制方便,无X射线损伤。
S gun is a gun-type magnetron sputtering source, which can replace the electron beam evaporation source or resistance evaporation source, made of high-quality metal coating. S gun can be plated with a predetermined ratio of aluminum - silicon, aluminum - silicon - copper Taiwan gold film, the step coverage characteristics better than the electron gun, the uniformity of ≤ ± 5%; and easy to control, no X-ray damage.
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