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Ga在SiO2—Si界面扩散特性的分析
Ga在SiO2—Si界面扩散特性的分析
来源 :固体电子学研究与进展 | 被引量 : 0次 | 上传用户:buugly
【摘 要】
:
利用元素Ga其DSiO2〉〉DSi的特点,实现了SiO2/Si中扩散,使基区得到了理想的浓度分布,但经热氧化后,基区表面的浓度值有明显下降趋势,从而表明Ga在SiO2-Si界面,具有两种相反的扩散倾向。
【作 者】
:
裴素华
程道平
【机 构】
:
山东师范大学半导体研究所
【出 处】
:
固体电子学研究与进展
【发表日期】
:
1998年1期
【关键词】
:
镓
界面
扩散
浓度分布
Gallium Interface Diffusion Profile of the Concentration
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利用元素Ga其DSiO2〉〉DSi的特点,实现了SiO2/Si中扩散,使基区得到了理想的浓度分布,但经热氧化后,基区表面的浓度值有明显下降趋势,从而表明Ga在SiO2-Si界面,具有两种相反的扩散倾向。
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