【摘 要】
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本文研究了Te-TeO_2-Sn-Ge非晶态薄膜的制备工艺以及薄膜在炉式退火后所引起的光学参数(透射率、反射率、折射率、消光系数),介电常数,光学能隙以及X射线衍射谱的变化情况,文
【机 构】
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华中理工大学固体电子学系,华中理工大学固体电子学系,华中理工大学固体电子学系,华中理工大学固体电子学系
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本文研究了Te-TeO_2-Sn-Ge非晶态薄膜的制备工艺以及薄膜在炉式退火后所引起的光学参数(透射率、反射率、折射率、消光系数),介电常数,光学能隙以及X射线衍射谱的变化情况,文中还分析了薄膜中各组元的作用和产生相应变化的机理。
In this paper, the preparation of Te-TeO_2-Sn-Ge amorphous thin films and the optical parameters (transmittance, reflectance, refractive index and extinction coefficient), dielectric constant and optical energy gap And X-ray diffraction spectra of the changes in the paper also analyzed the role of each element in the film and produce the corresponding changes in the mechanism.
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