硅基多孔U-SiC薄膜的电致发光及其机理分析

来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:wuyikun2
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单晶硅中注入高剂量的C^+离子,注入能量为50keV,经高温退火后形成βSiC沉淀,再经电化学腐蚀形成多孔β-SiC,样品表面蒸上一层半透明的金膜,在正向偏压高于25V时,可以获得波长约为447nm的蓝光发射,而且该蓝光发射随着电压的升高而增强。文中还将多孔β-SiC薄膜的电致发光和其光致发光进行了比较,并讨论了其发光机理。
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