【摘 要】
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本文叙述极高真空残气分析质谱计的性能要求,以及影响极高真空残气分析的若干因素。 影响测量下限的因素是软X射线和其它辐射引起的光电发射和电子碰撞脱附(EID)。与X射线不
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本文叙述极高真空残气分析质谱计的性能要求,以及影响极高真空残气分析的若干因素。 影响测量下限的因素是软X射线和其它辐射引起的光电发射和电子碰撞脱附(EID)。与X射线不同,电子碰撞脱附效应除和真空系统的历史、气体组分、电子流等因素外,还和离子源的结构有关。如果仪器设
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