【摘 要】
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Mitsubishi材料公司开发了一种便于在集 成电路块上形成薄膜的有机金属复合新材料。这种新材料具有气化性好、分步复盖性能佳、热稳定性高等特点。他很适用于金属氧化物化学
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Mitsubishi材料公司开发了一种便于在集 成电路块上形成薄膜的有机金属复合新材料。这种新材料具有气化性好、分步复盖性能佳、热稳定性高等特点。他很适用于金属氧化物化学气化沉析,从而便于在半导体上生成薄膜。
Mitsubishi Materials has developed a new organometallic composite material that facilitates the formation of thin films on integrated circuit blocks. This new material has good gasification, good step-by-step coverage, high thermal stability. He is very suitable for metal oxide chemical vapor deposition, so as to facilitate the formation of thin films on the semiconductor.
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