【摘 要】
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本文研究了紫外(355um)、可见(560nm)和近红外(1064nm)脉冲激光辐照下Cl_2分子束与 Al,Cu和Ti金属表面蚀刻反应动力学.由四极质谱测得的不同反应产物离子的飞行时间谱,满意地
【机 构】
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复旦大学激光化学研究室,复旦大学激光化学研究室 上海 200433,上海 200433
【出 处】
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中国科学(A辑 数学 物理学 天文学 技术科学)
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本文研究了紫外(355um)、可见(560nm)和近红外(1064nm)脉冲激光辐照下Cl_2分子束与 Al,Cu和Ti金属表面蚀刻反应动力学.由四极质谱测得的不同反应产物离子的飞行时间谱,满意地采用三种不同形式的Maxwell分布进行了拟合,并得出上述各反应的产物质量分布和速度分布.同时还研究了不同波长的激光对金属表面蚀刻反应的影响。
In this paper, the etching reaction kinetics of Cl_2 molecular beam with Al, Cu and Ti metal surfaces under pulsed laser irradiation at 355um, visible (560nm) and near-infrared (1064nm) pulsed laser were studied.The different reaction product ions The time-of-flight spectra were satisfactorily fitted with three different Maxwell distributions, and the product mass distribution and velocity distribution of the above reactions were obtained. The effects of different wavelengths of laser on the etching of metal surface were also studied.
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