【摘 要】
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在0.2～0.3mol/L HCl介质中,有CTMAB和OP混合表面活性剂存在下,锑(Ⅲ)与邻氯苯基荧光酮(o-CIPF)形成的配合物最大吸收在518nm,摩尔吸光系数为7.91×10~4,锑在0～12μg/25ml范围内
【机 构】
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广东工学院化工系,广东工学院化工系 广州,广州
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在0.2～0.3mol/L HCl介质中,有CTMAB和OP混合表面活性剂存在下,锑(Ⅲ)与邻氯苯基荧光酮(o-CIPF)形成的配合物最大吸收在518nm,摩尔吸光系数为7.91×10~4,锑在0～12μg/25ml范围内服从比尔定律.Sb(Ⅲ):o-CIPF=1:2和1:5.拟定的方法可直接测定铅锌矿及铝合金中的微量锑,结果满意.
In the presence of CTMAB and OP mixed surfactant in 0.2-0.3mol / L HCl medium, the maximum absorption of the complex formed by antimony (Ⅲ) and o-chlorophenylfluorone (o-CIPF) is at 518nm. The molar extinction coefficient Is 7.91 × 10 ~ 4, and Sb is obeyed in the range of 0 ~ 12μg / 25ml.Sb (Ⅲ): o-CIPF = 1: 2 and 1: 5.The proposed method can directly determine Trace of antimony, with satisfactory results.
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