【摘 要】
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描述了KrF准分子激光对氧化锆陶瓷的微刻蚀实验,研究了脉冲刻蚀深度与脉冲数的关系(刻蚀速率),刻蚀的槽的形貌,并进行了刻蚀小孔的初步研究,得到直径为40μm,深度为25μm的微
【机 构】
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中国科学院上海光学与精密机械研究所,中国科学院上海光学与精密机械研究所,中国科学院上海光学与精密机械研究所,中国科学院上海光学与精密机械研究所,中国科学院上海光学与精密机械研究所 上海 201800,
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描述了KrF准分子激光对氧化锆陶瓷的微刻蚀实验,研究了脉冲刻蚀深度与脉冲数的关系(刻蚀速率),刻蚀的槽的形貌,并进行了刻蚀小孔的初步研究,得到直径为40μm,深度为25μm的微孔矩阵。为KrF激光对该材料的加工提供实验数据。
The micro-etching experiment of ZrF ceramic by KrF excimer laser is described. The relationship between the pulse depth and pulse number (etching rate), the shape of groove etched, and the preliminary etching hole Study, to obtain a diameter of 40μm, a depth of 25μm microporous matrix. KrF laser processing of the material to provide experimental data.
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