【摘 要】
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一、无显影光刻工艺一般的光刻为涂胶、前烘、掩模对准曝光、显影、坚膜、湿法腐蚀和去胶七步工艺.无显影光刻工艺,省去了坚膜和显影两步操作,采用氢氟酸气氛进行腐蚀,叫汽相
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一、无显影光刻工艺一般的光刻为涂胶、前烘、掩模对准曝光、显影、坚膜、湿法腐蚀和去胶七步工艺.无显影光刻工艺,省去了坚膜和显影两步操作,采用氢氟酸气氛进行腐蚀,叫汽相腐蚀工艺.
First, the non-photolithographic process Lithography for the general coating, pre-baked, mask alignment exposure, development, film, wet etching and to glue seven-step process. No photolithography process, eliminating the need for film And development of two-step operation, the use of hydrofluoric acid atmosphere corrosion, called the vapor phase etching process.
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