CMOS工艺聚酰亚胺电容型湿度传感器的研究

来源 :电子元件与材料 | 被引量 : 0次 | 上传用户：harryvincent

【摘要】

：

以正胶光刻和干湿刻蚀方法,结合CMOS工艺制备了聚酰亚胺电容型湿度传感器.研究了硅基、钼-铝栅条状电极湿度传感器的结构及亚胺化温度对其性能的影响.结果表明:相对湿度(RH)

【作者】

：

崔千红杨子健韦波杨建红

【机构】

：

兰州大学,物理科学与技术学院微电子研究所,甘肃,兰州,730000

【出处】

：

电子元件与材料

【发表日期】

：

2009年12期

【关键词】

：

湿度传感器电容型聚酰亚胺 CMOS工艺

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以正胶光刻和干湿刻蚀方法,结合CMOS工艺制备了聚酰亚胺电容型湿度传感器.研究了硅基、钼-铝栅条状电极湿度传感器的结构及亚胺化温度对其性能的影响.结果表明:相对湿度(RH)为20%～80%发生准静态变化时,该传感器的湿度-电容曲线具有较好的线性度;外界相对湿度在12%和92%间发生阶跃变化时,响应时间约为40 s.

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