【摘 要】
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本文用动态拉伸法研究了基体温度和 Ar 气压力对磁控溅射不锈钢膜与碳钢基体间粘附性的影响。结果表明,基体温度为400℃,Ar 气压力为133—467mPa(1-3.5×10~(-3)mmHg)为最佳
【机 构】
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中国科学院金属腐蚀与防护研究所,中国科学院金属腐蚀与防护研究所
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本文用动态拉伸法研究了基体温度和 Ar 气压力对磁控溅射不锈钢膜与碳钢基体间粘附性的影响。结果表明,基体温度为400℃,Ar 气压力为133—467mPa(1-3.5×10~(-3)mmHg)为最佳。
In this paper, the effect of substrate temperature and Ar gas pressure on the adhesion between magnetron sputtering stainless steel and carbon steel substrate was studied by dynamic stretching method. The results show that the optimum temperature is 400 ℃ and Ar gas pressure is 133-467 mPa (1-3.5 × 10 -3 mmHg).
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