【摘 要】
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作者曾参加了第三十届国际电子束、离子束、光子束年会,在此介绍了该年会电子束学组所提出的一些主要观点。本文讨论了与计算机控制系统、工作台驱动系统以及电子束偏转系统
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作者曾参加了第三十届国际电子束、离子束、光子束年会,在此介绍了该年会电子束学组所提出的一些主要观点。本文讨论了与计算机控制系统、工作台驱动系统以及电子束偏转系统有关的一些技术问题并提出了这些技术的发展趋势。文中还对各种类型的电子束曝光机进行了比较,并报导了电子束曝光在其它领域的应用情况。
The author participated in the thirtieth International Conference on Electron Beams, Ion Beams and Photon Beams, introducing some of the key points raised by the annual Electron Beam Group. This paper discusses some technical issues related to computer control system, workbench drive system and electron beam deflection system and presents the development trend of these technologies. The article also compares various types of electron beam lithography machines and reports the application of electron beam lithography in other fields.
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