【摘 要】
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一、前言现行的真空镀膜工艺都采用离子轰击法,也就是在低真空条件下(10~(-2)～10~(-3)托),用高压电场(2～5 kV)使钟罩内的气体分子电离,从而产生具有一定速度的离子流轰击待镀
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一、前言现行的真空镀膜工艺都采用离子轰击法,也就是在低真空条件下(10~(-2)～10~(-3)托),用高压电场(2～5 kV)使钟罩内的气体分子电离,从而产生具有一定速度的离子流轰击待镀玻璃表面,起到除尘、去油、去气等作用。经
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