【摘 要】
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研究直流磁控溅射中溅射功率对ＴｂＦｅＣＯ磁光薄膜成分均匀性、厚度均匀性、克尔旋转角θｋ和矫顽力Ｈｃ的影响。实验结果表明对于全金属互化物相（１００％ＩＭ）ＴｂＦｅＣｏ合金靶，若采用适当的溅射功率，不但能够实现高速
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研究直流磁控溅射中溅射功率对ＴｂＦｅＣＯ磁光薄膜成分均匀性、厚度均匀性、克尔旋转角θｋ和矫顽力Ｈｃ的影响。实验结果表明对于全金属互化物相（１００％ＩＭ）ＴｂＦｅＣｏ合金靶，若采用适当的溅射功率，不但能够实现高速率溅射，而且可获得较好的成分和厚度均匀性，同时溅射所得薄膜具有大的克尔旋转角和合适的矫顽力。此工艺参数被用于磁光盘的生产。
The effects of sputtering power on the composition uniformity, thickness uniformity, Kerr rotation angle θk and coercive force Hc of TbFeCO films were investigated. The experimental results show that for the all-metal-intermetallic phase (100% IM) TbFeCo alloy target, if the proper sputtering power is used, not only the high-rate sputtering but also the better composition and thickness uniformity can be obtained. Meanwhile, The film has a large Kerr rotation angle and a suitable coercivity. This process parameters are used for the production of magneto-optical discs.
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