物理显影工艺对集成电路照相掩模的改善

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菲利浦研究实验室研制成一种新的物理显影版(PD—Platte),从而获得较高的溶解度及较好的边缘清晰度,此外,重复性也有重大的改进。原则上,物理显影工艺完成了这目的,因为在物理显影工艺中运用了高吸附作用的光敏化合作用,在只有1.6微米厚层中分散。曝光后形成的潜象通过物理显影工艺在两个处理阶段中作金属 Philips Research Laboratories has developed a new PD-Platte for higher solubility and better edge definition, as well as significant repeatability improvements. In principle, this is done by the physical development process, because of the photo-chemical combination of high adsorption used in the physical development process, dispersed in only a 1.6 micron thick layer. The latent image formed after exposure acts as a metal in both processing stages by the physical development process
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