【摘 要】
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在关于硅材料先进科学和工艺的第三届国际会议上,日本超级硅研究所(SSI—Super silicon crystal Research Institute)发布了迄今最先进的直径400 mm(16英寸)硅单晶片制造工
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在关于硅材料先进科学和工艺的第三届国际会议上,日本超级硅研究所(SSI—Super silicon crystal Research Institute)发布了迄今最先进的直径400 mm(16英寸)硅单晶片制造工艺。 SSI是日本于1996年组建的、有日本政府财政支持的旨在进行400 mm硅单晶生长和晶片加工研究开发的集团。组建时,SSI的官员曾预料,2008年开始使用400 mm硅片,但在这次会议上,他们认为要到2014年才会开始使用。SSI的权威人士称,他们已开发出
At the 3rd International Symposium on Advanced Materials and Technologies for Silicon Materials, the SSI-Super silicon crystal Research Institute unveiled the most advanced 400 mm (16 inch) diameter silicon single-wafer manufacturing process to date. SSI is a group established by Japan in 1996 with the financial support of the Japanese government to research and develop 400 mm silicon single crystal growth and wafer processing. At the time of formation, SSI officials had expected 400 mm wafers to be used in 2008, but at this meeting they did not consider it to be operational until 2014. Authorities at SSI say they have developed
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