【摘 要】
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引言一九七五年第四期“应用光学”杂志上,发表了意大利西西里岛首府巴勒摩市V.Daneu的一篇文章,介绍了他们实验室在研制光学波导元件时,经常采用的一套光学薄膜厚度监控装
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引言一九七五年第四期“应用光学”杂志上,发表了意大利西西里岛首府巴勒摩市V.Daneu的一篇文章,介绍了他们实验室在研制光学波导元件时,经常采用的一套光学薄膜厚度监控装置。据讲,他们的装置简单易行,灵敏度很高(<λ/100)。通常这个装置是做为非吸收膜的λ/2和λ/4的光学厚度的鉴零控制器。对电介质多层
INTRODUCTION In the fourth issue of Applied Optics in 1975, an article was published by V. Daneu of Palermo, the capital of Sicily, Italy, introducing the commonly used one of their laboratories in developing optical waveguide components Set of optical film thickness monitoring device. It is said that their device is simple and sensitive (<λ / 100). Normally, this device is a zero-proof controller that is an optical thickness of λ / 2 and λ / 4 of the non-absorbing film. Multilayer dielectric
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