硅基多孔氧化铝薄膜微结构的TEM研究

• 作 者: 赵小宁 吴俊辉 邹建平 朱健民 鲍希茂 冯端
• 机 构: 南京大学现代分析中心!南京210093濮林,南京大学物理系固体微结构国家实验室!南京210093,南京大学物理系固体微结构国家实验室!南京210093,南京大学物理系固体微结构国家实验室!南京2100
• 出 处: 电子显微学报
• 发表日期: 2000年04期
• 关键词: 氧化铝薄膜 微结构 基多 阳极氧化 多孔氧化铝 蒸镀 纳米材料 纳米 原位合成 阵列

阳极氧化多孔氧化铝薄膜(anodicporousaluminafilm,APA)作为模板的应用已引起广泛关注。它的优点在于其主要的特征参数如孔径(1～300nm)、孔长(10～3000nm)及孔密度(108～1011cm-2)都可以用选择不同腐蚀电压的方法来加以控制,孔的长度直径比可达1000以上[1],而且在理想的APA膜?

The use of anodicporous aluminum oxide film (APA) as a template has drawn much attention. Its advantage is that its main characteristic parameters such as aperture (1 ~ 300nm), hole length (10 ~ 3000nm) and hole density (108 ~ 1011cm-2) can be controlled by choosing different etching voltage. The hole length Diameter ratio up to more than 1000 [1], but also in the ideal APA film?