双晶x射线衍射法测量超薄层外延材料厚度

• 作 者: 曲轶 高欣 张宝顺 薄报学 张兴德
• 机 构: 吉林大学电子工程系!长春130023,长春光学精密机械学院高功率半导体激光国家重点实验室!长春130022,长春光学精密机械学院高功率半导体激光国家重点实验室!长春130022,长春光学精密机械学院高
• 出 处: 半导体技术
• 发表日期: 1999年06期
• 关键词: 双晶x射线衍射 超薄层厚度

介绍了通过双晶ｘ 射线衍射测量超薄外延层厚度的一种方法。利用回摆曲线中的干涉条纹测量了通过ＭＢＥ生长的Ｇａ０．７Ａｌ０．３Ａｓ／Ｇａ０．９Ａｌ０．１Ａｓ／Ｇａ０．７Ａｌ０．３Ａｓ结构的各层层厚

A method of measuring the thickness of ultrathin epitaxial layer by twin crystal x-ray diffraction is introduced. The thickness of each layer of Ga0.7Al0.3As / Ga0.9Al0.1As / Ga0.7Al0.3As structures grown by MBE was measured using the interference fringes in the sway curve