【摘 要】
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本文利用简化数学模型,在对常规光刻系统对准方法的调节过程和存在问题进行初步分析的基础上,提出一种新的对准方案——“偏置式双中心调节法”。经数学模型的理论分析和实践
【机 构】
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中国科学院半寻体研究所 校友 高级工程师
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本文利用简化数学模型,在对常规光刻系统对准方法的调节过程和存在问题进行初步分析的基础上,提出一种新的对准方案——“偏置式双中心调节法”。经数学模型的理论分析和实践证明,此方案具有对准调节过程较为方便迅速、对准精确度高、能自动适应基片尺寸增大的要求、对准台结构简单、另件加工装配方便等优点。其局限性可通过整体设计及操作配合加以克服。其应用逐渐扩大,前景是广阔的。
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