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首次提出了用磁控溅射方法制备光栅常数ｄ在１０ｎｍ量级的透射式闪耀光栅的新方法的设想，并以基于层间界面全反射的透射式闪耀光栅为模型讨论了光栅的性能。
超高密度（10^51／mm）软X射线透射式闪耀光栅的新设想
【摘 要】
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首次提出了用磁控溅射方法制备光栅常数ｄ在１０ｎｍ量级的透射式闪耀光栅的新方法的设想，并以基于层间界面全反射的透射式闪耀光栅为模型讨论了光栅的性能。
【机 构】
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中国科学院高能所同步辐射室
【出 处】
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光学学报
【发表日期】
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1995年10期
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