【摘 要】
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薄膜固态反应,特别是Ni-Si薄膜的固态反应,一直是人们研究的热点,这与它们在实际中的广泛应用是分不开的.薄膜反应的突出特点是单相性,即不同的反应温度下只出现不同的单一相
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薄膜固态反应,特别是Ni-Si薄膜的固态反应,一直是人们研究的热点,这与它们在实际中的广泛应用是分不开的.薄膜反应的突出特点是单相性,即不同的反应温度下只出现不同的单一相.且不同的相的出现有一定的顺序.与此不同的是体扩散偶中的实验现象,在体或横向扩散偶中都观察到了反应形成多相共存的现象.为了研究粉末反应与薄膜和体扩散偶反应的异同,并研究高压对反应的影响,作者作了Ni-Si和Ni-Sb二元系统的粗晶粒混合粉和纳米晶粒混合粉的固态反应实验,结果表明,粉体反应类似于体扩散偶中的反应温度,且对于成形某些真空条件下不易形成或与高压同等温度下无法形成的相有很大的促进作用.在Ni-Si粗晶粒的反应中,在较低温度(500℃)下形成了在体扩散偶中600℃以上,而薄膜中无法形成的Ni<,3>Si<,2>相,它在体扩散偶中的反应是由形核控制的.在Ni-Sb纳米晶粒的反应中,在较低温度(515℃)下形成了535℃以上稳定的高温相(Ni<,5>Sb<,2>)T<*>相.应用固态反应的反应驱动力,形核功,形核速率和长大速率等概念,结合高压效应,对以上所得到的特殊实验现象作了合理的分析和解释.
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