【摘 要】
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该文在简单介绍CVD、MOCVD技术发展及其研究概况以及制备MoC膜的意义之后,着重介绍了研究人员有用MOCVD工艺技术制备MoC膜的过程、比较工艺实验、对膜的成份测量、表面形态观
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该文在简单介绍CVD、MOCVD技术发展及其研究概况以及制备Mo<,2>C膜的意义之后,着重介绍了研究人员有用MOCVD工艺技术制备Mo<,2>C膜的过程、比较工艺实验、对膜的成份测量、表面形态观测的结果,在实验测量分析基础上提出了Mo<,2>C膜的成膜机制.对Mo<,2>C膜台阶仪测量谱进行统计,确定粗糙度、表面高度和高差分布遵从的实验规律,应用固体物理理论以及非平衡态理论对Mo<,2>C膜的表面粗糙度、高度和高差分布进行比较详细的研究,最后对Mo<,2>C膜的表面形态进行计算机模拟.研究表明:理论计算、微机模拟与实验统计三者结果一致.
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