【摘 要】
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该文以亚微米级SiN为原料,YO+AlO为助烧剂,BN和TiB为添加剂,采用热压烧结的方法制备了SiN/h-BN和SiN/TiB复合陶瓷材料.通过SEM、TEM、XRD等分析手段和三点弯曲、单边切口梁和
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该文以亚微米级Si<,3>N<,4>为原料,Y<,2>O<,3>+Al<,2>O<,3>为助烧剂,BN和TiB<,2>为添加剂,采用热压烧结的方法制备了Si<,3>N<,4>/h-BN和Si<,3>N<,4>/TiB<,2>复合陶瓷材料.通过SEM、TEM、XRD等分析手段和三点弯曲、单边切口梁和压痕等实验方法对氮化硅基陶瓷复合材料的微观结构和室温力学性能进行了较为系统的研究,并且讨论了氮化硅陶瓷中的增韧和强化机制.
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